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北方華創正式發布公司首款12英寸電鍍設備

來源:投影時代 更新日期:2025-03-28 作者:佚名

    近日,北方華創正式發布公司首款12英寸電鍍設備(ECP)——Ausip T830。該設備專為硅通孔(TSV)銅填充設計,主要應用于2.5D/3D先進封裝領域。該產品標志著北方華創正式進軍電鍍設備市場,并在先進封裝領域構建了包括刻蝕、去膠、PVD、CVD、電鍍、PIQ 和清洗設備的完整互連解決方案。

    電鍍作為物理氣相沉積(PVD)的后道工藝,其設備與PVD設備協同工作,廣泛應用于邏輯、存儲、功率器件、先進封裝等芯片制造工藝。在工藝流程中,PVD設備首先在槽/孔內形成籽晶層,隨后電鍍設備將槽/孔填充至無空隙。隨著先進封裝和三維集成技術的快速發展,電鍍設備的全球市場規模已達每年80-90億元人民幣,且仍在加速擴張,預計未來幾年將突破百億大關。

    北方華創的Ausip T830設備突破三十多項關鍵技術,展現了深厚技術實力。該設備采用高真空密封和電化學沉積技術,實時優化預潤濕及電鍍參數,實現高深寬比TSV填充。通過優化電場、流場和藥液濃度,使TSV內部及邊緣的銅沉積均勻,減少缺陷,提高芯片良率和可靠性。其雙層雙腔架構可同時處理兩片晶圓,提高產能,節省空間。定制氣缸和密封結構增強穩定性,降低維護成本。智能補液系統減少添加劑用量,助力綠色制造。設備支持模塊化定制和后續技術升級,滿足多樣化需求。目前,該設備的電鍍膜厚均勻性滿足客戶要求,能夠有效填充孔直徑2-12微米,孔深16-120微米的多種孔型產品。

    展望未來,北方華創將把握先進封裝發展的機遇,持續加大研發投入,致力于打造先進封裝領域的完整解決方案。同時,北方華創將繼續與客戶保持深度合作,共同推動先進封裝技術的發展,助力芯片產業邁向新高度。

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